教练领导（教室）培训金宝搏娱乐城
课程亮点
课程详情
从22nm处理节点开始，由于光刻问题，使用多个掩模来打印单层的要求成为了要求。Foundries已经修改了他们的规则甲板来支持使用多图案，并将要求所有22nm（更小）客户使用此技术。当采用多图案时，对芯片设计人员和CAD支持团队有很多影响。本课程将帮助用户了解这些含义并向他们展示如何使用铸造规则甲板和口径创建与多图案兼容的设计。
你将学到如何：
- 为什么需要多图案
- 采用各种技术来补偿多图案化的影响
- 如何调用Caliber以识别和潜在地修复多图案化布局问题
- 如何解释口径输出以定位并理解有问题的布局几何形状
- 如何修改布局以减少或消除多图案问题
- 基本级别的SVRF编码技术用于查找和修复多图案化布局问题
实践实验室
在本课程中，广泛的实践实验室练习为您提供了使用口径多图案化软件的实践经验。金宝博滚球专家实践实验室主题包括：
- 查看“坏”面具轮廓
- 运行口径双重图案化示例
- DRC间距规则影响
- 运行新的口径DP流量
- 锻炼不同的分解流
- 用户定义的颜色选择
- 处理层次结构
- 推荐的流量
- 解释DP导致rve
- 使用带有LV的DP
先决条件
需要完成Calibre NMDRC / NMLVS类或使用Calibre NMDRC的等效体验
建议完成口径DRC / LVS规则写入课程，但不需要
彻底了解IC布局技术和程序
使用IC布局编辑工具的体验
熟悉Unix.
利用布局验证工具的布局验证概念和经验良好了解
