GDSII - 掩模流的解决方案
导师提供了针对GDSII-to-掩盖流动的关键挑战定制的解决方案，包括保持高晶片产量的紧密关键尺寸（CD）控制，减少到掩盖时间，操作成本以及新技术开发的持续时间和成本。
设计工具
IC制造工具套件
导师工具套件提供分辨率增强（RET）所需的数据操作的无缝集成，例如相移掩模（PSM），散射杆（SB）和光学接近校正（OPC）以及掩模规则检查，掩码编写器处理校正和数据格式转换，所有内容都在单个批处理运行中。
我们的解决方案是在公共层次数据库和几何处理引擎上建立的，它提供了层推导，镜像，缩放，旋转，平面化填充和全局和选择性尺寸等功能。流程与最重要的掩码写入器格式的输出总结在子波长时代的高级掩模制作中，例如MEBES和可变形状光束（VSB）格式以及GDSII。
特点和优惠
前沿掩模增强和制造
在过去十年中，我们帮助了几十家Fabs改善了他们的面具质量和设计到掩码的周转时间（TAT）：
- 最佳技术
- 灵活的解决方案，提供各种工具接口和硬件平台
- 作为可信合作伙伴和顾问的工程支持团队，以确保您的成功
集成的设计 - 掩模虚拟制造流程
- 布局物理和电气验证
- 制造设计（DFM）建模和优化
- 全面的分辨率增强技术（RET）
- 最先进的光学邻近校正（OPC）和验证
- 专用面罩编写器流程校正（MPC）
- 分层掩码规则检查（MRC）
- 面具压裂和面罩作者数据转换
开放和可访问
我们所有的工具都可以通过各种接口打开和访问，允许您优化最快的磁带到掩模的流程。
- Calibre和Oasis数据库API
- 光刻和计量API
- 共同规则和控制语言
