GDSII-to-mask流的解决方案

Mentor提供针对您在GDSII-to-Mask流程中的关键挑战的解决方案,包括保持严格的关键尺寸(CD)控制以获得高晶片产量并减少掩模时间,运营成本,以及新技术开发的持续时间和成本。

导师收购软锦产品

Mentor已经从SoftJin Technologies获得了掩模数据准备产品和一组高级工程师。查看Mentor Graphics收购的软金产品列表

导师培训金宝搏娱乐城

我们在世界各地的金宝搏娱乐城培训中心为校准产品提供培训课程,在线,或者在你的站点。

校准培训班金宝搏娱乐城
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设计工具

Calibre∈计算光刻

校准计算光刻解决方案提供了核心创新,确保跨多个工艺条件的图像保真度,在制造过程中提供更强的鲁棒性和可靠性。 了解更多

校准掩模工艺校正

校准掩模过程校正解决方案应用了Mentor的基于模型的OPC技术,优化专门为电子束掩模作者开发。了解更多

口径掩模数据准备

Mentor的面具数据准备(MDP)解决方案与Calibre平台完全兼容,使您能够使用单一控制语言在一个掩模制作批量运行中完成所有分辨率增强处理和掩模数据格式转换任务。了解更多

IC制造工具套件

Mentor工具套件提供了对分辨率增强(RET)所需的数据操作的无缝集成,例如相移掩模(PSM),散射条(SB)和光学邻近校正(OPC),以及掩码规则检查,掩码写入器处理校正,以及数据格式转换,全部在一批次运行中。

我们的解决方案建立在一个通用的分层数据库和几何处理引擎上,提供层导出等功能,镜像,缩放比例,旋转,平面化填充,以及全局和选择性施胶。该流程以亚波长时代高级掩模制作的最重要的掩模写入器格式的输出结束,诸如MEBES和可变形状波束(VSB)格式,以及GDSII。

特色与效益

前沿掩模的增强与制作

在过去的十年里,我们已经通过以下组合帮助数十家工厂提高其掩模质量和设计到掩模周转时间(TAT):

  • 一流技术
  • 提供多种工具接口和硬件平台的灵活解决方案
  • 一个工程支持团队,作为一个值得信赖的合作伙伴和顾问,以确保您的成功

面向掩模的集成化虚拟制造流程

  • 布局物理和电气验证
  • 面向制造的设计与优化
  • 综合分辨率增强技术(RET)
  • 光学邻近校正(OPC)及其验证
  • 专用掩码写入器进程校正(MPC)
  • 分层掩码规则检查(MRC)
  • 掩码拆分和掩码写入器数据转换

开放和可访问

我们所有的工具都是开放的,可以通过各种接口访问,允许您优化您的流程来获得最快的带出到掩码。

  • Calibre和Oasis数据库API
  • 光刻和计量API
  • 通用规则和控制语言
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