Calibre®OpcVerify™

目前,低k1光刻工艺正在增加纳米设计中分辨率增强技术(ret)应用的复杂性。这导致了掩模规则约束导致的硅失效率更高,碎片化,建模和计量误差,还有更多。为了减少误差,在将设计发送给掩模或晶圆制造商之前,需要一个OPC后验证步骤来检测故障。

特点和优点

  • 先进工艺条件下的精确晶圆轮廓模拟,包括浸水石
  • 支持多种OPC使用模式,包括OPC配方验证,面罩符号关闭,石版友好设计,VT5与光学
  • 针对CD错误的预定义和自定义脚本,间隔误差桥接和夹持检查,两层检查
  • 易于定制并集成到现有流程中
  • Calibre分层多边形处理引擎提供了一个用于所有岩性模拟的精确建模基础
  • 高处理可扩展性确保了掩模操作的必要周转时间
  • 无专用硬件;在所有主要平台上运行

相关产品

刻度nMOPC

Calibre NMOPC是第三代光学邻近校正(OPC)工具,它扩展了分辨率增强技术(RET)产品的Calibre Arsential,用于亚65纳米(NM)工艺技术。了解更多

资源

口径训练金宝搏娱乐城

我们有培训课程金宝搏娱乐城口径产品在世界各地的培金宝搏娱乐城训中心,在线,或者在你的网站上。人才培训课程金宝搏娱乐城

闲聊γ 接触