米斯科普特

Calibre®Maskopt™通过对断裂数据进行高级预处理,降低总放炮次数,从而降低掩模成本和掩模写入时间。Calibre Maskopt可以在45纳米及以下的高级技术节点的数据集上实现多达20%的快照数减少。

基于模型的OPC的布局调整造成了大量的断裂,可移动段。Calibre-Maskopt校准后OPC数据中过多的点动,不影响光刻过程临界尺寸(CD)控制的结果质量。两个对立面的适当对齐,错位的点动可以消除一个骨折后的矩形。整个布局,这种对齐方式大大简化了OPC后的数据,显著减少数据量,断开运行时,以及掩模书写时间。maskopt的输出可以通过Calibre OpcVerify™校准MDPVerify™.

特点和优点

  • 在不降低掩模质量的情况下,简化和减少OPC后数据量
  • 在45nm及以下的数据集上,放炮次数最多减少20%
  • 小数字计数最多减少50%
  • 减少掩模写入时间
  • 降低掩模写入成本
  • 减少掩码数据量
  • 利用集成的掩模数据准备流程提高生产效率

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