Calibre®MPCPro是一种解决电子束光刻和掩模蚀刻过程中产生的系统误差的方法。Calibre OpcPro™光学过程校正技术。Calibre MPCPro修正了雾化等过程效果，开发和蚀刻加载，以及Ebeam邻近效应。
Calibre Opcpro提供复杂IC布局的全芯片光学和工艺校正，以提高产量和工艺纬度。使用面向批处理的流，Calibre Opcpro对布局进行更改，以补偿深亚微米制造过程中固有的光刻变形。了解更多
我们有培训课程金宝搏娱乐城口径产品在世界各地的培金宝搏娱乐城训中心，在线，或者在你的网站上。人才培训课程金宝搏娱乐城
