IC制造新闻与行业文章
最新消息
Mentor Graphics将嵌入式内存添加到Kronos细胞特征和分析平台中
6月24日，二千零一十三
指导图形和Jeol开发先进的IC掩模书写解决方案
11月23日，二千零一十一
- Mentor Graphics和GlobalFoundries将RET和OPC协作扩展到28纳米 3月1日，二千零一十一
- 新上海华利铸造选择Mentor图形口径RET解决方案，用于65/45nm的开发和生产。 2月28日，二千零一十一
- 作为三星电子新推出的32nm高K金属门产品的一部分，指导硅解决方案的图形设计。 6月11日，二千零一十
- 飞思卡尔半导体公司与Mentor图形公司合作进行Tessent硅测试，产量分析，校准物理验证和DFM 1月11日，二千零一十
- GlobalFoundries选择Mentor图形校准平台进行计算光刻和DFM支持 10月16日，二千零九
- Mentor Graphics and Applied Materials Deploy OASIS.Mask开放数据标准，用于更高效的掩模制造 9月14日，二千零九
- STMicroelectronics用于描述32nm细胞库的Mentor图形ELDO模拟器 3月5日，二千零九
- Mentor Graphics Olympus P&R和Calibre验证平台在STMicroelectronics获得32nm IC设计资格 3月2日，二千零九
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行业文章
- 7nm光刻选择 3月7日，二千零一十六
- 三星利用导师工具实现更高收益的闭环DFM 10月6日，二千零一十五
- 切割14nm光刻的关键 4月8日，二千零一十三
- 称重22nm光刻机的设计要求 1月15日，二千零一十
- 抑制先进光刻技术失控的计算需求 1月12日，二千零一十
- 连接设计和制造 12月3日，二千零八
- 采访J.计算光刻术 11月3日，二千零八
- 可制造源掩模优化 11月3日，二千零八
- 32nm计算光刻技术发展趋势 9月1日，二千零八
- 台积电采用Mentor图形eldo模拟仿真工具-EDA极客新闻 8月12日，二千零八
