指导图形和Jeol开发先进的IC掩模书写解决方案

威尔逊维尔矿石，11月23日，2011年Mentor图形公司（NASDAQ:MENT）和Jeol有限公司今天宣布了一项协议，合作开发集成硬件和软件解决方案，用于高级IC掩模的编写。金宝博滚球专家这些公司目前正在进行一项研究项目，以证明一种称为多分辨率写入的创新技术的可行性，与传统的写入技术相比，该技术可减少多达30%的镜头计数。大大缩短了掩模的写入时间。新协议的重点是开发这项技术，并提供Mentor®面膜数据准备以及掩模工艺校正（MPC）软件和JEOL电子束光刻设备。金宝博滚球专家

“我们的客户已经看到了我们与Mentor Graphics合作改进遮罩质量和加快高级节点遮罩写入时间的好处，“wataru wakamiya说，杰尔半导体事业部的公司官员和总经理。“Mentor是光学邻近校正领域的行业领导者，掩模数据准备，以及掩模过程校正，因此，我们很高兴宣布正式延长我们长期成功的工作关系。”“

“多年来，我们的合作为我们的共同客户带来了重大创新和可靠的解决方案，这项协议将有助于保持Mentor软件和Jeol硬件之间的一致性，因为我们的两个产品线都在发展以处理新的技术节点，金宝博滚球专家“约瑟夫·索维奇说，副总裁兼硅部导师设计总经理。“我们期待着与Jeol合作，解决先进集成电路制造的重大挑战。”“

新的多分辨率写作工作正在启用模式”镜头在蒙版空白上，在多次传递中交替使用详细和简化版本，矢量电子束写入系统，节省掩模写入时间。Mentor Mask Process Correction软件有助于金宝博滚球专家确保最终从曝光总数中打印出正确的图像。以前，Mentor和Jeol共同致力于开发解决方案，以纠正与50 kev Ebeam掩模写入相关的过程影响，并演示Jeol数据规范中使用的剂量编码算法。

新的协议合作涵盖了导师Calibre®口罩数据准备产品线，以及Jeol JBX-3200MV，JBX-30XXMV和JBX-9000MV掩模写入器系列产品。客户使用Mentor软件纠正流程变化，以提金宝博滚球专家高最终遮罩模式的逼真度，并验证遮罩数据。Jeol还使用导师工具探索研究和开发过程中的创新，验证新产品功能并协助客户支持。

关于Mentor图形

Mentor Graphics Corporation（NASDAQ:MENT）是全球电子硬件和软件设计解决方案的领导者，金宝博滚球专家提供产品，为世界上最成功的电子产品提供咨询服务和屡获殊荣的支持，半导体和系统公司。成立于1981年，该公司报188beat告称，过去12个月的收入约为9.15亿美元。公司总部位于西南8005号。博克曼路，威尔逊维尔俄勒冈州97070-7777。万维网网站：//www.kdbjw.com/。

（导师图形，Mentor和Calibre是Mentor Graphics Corporation的注册商标。所有其他公司或产品名188beat称是其各自所有者的注册商标或商标）

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