Calibre Fracture以目标掩码写入格式直接导出mask making数据，不需要更改工具或创建大型中间文件。mask fracture和数据导出。口径断裂™
Calibre MDPMerge可实现从物理验证和分辨率增强技术（RET）到完成掩模数据准备的连续流程。校准MDPMerge™
calibre mdpverify根据原始gdsii定义检查最终的mask writer数据，以防止使用错误数据写入掩码。校准MDPVerify™
目视验证掩模数据。校准MDPview™
掩模过程校正过程加载和邻近效应。口径MPCro
专门针对电子束掩模写入程序的优化。口径NMMPC
用于先进集成电路制造工艺的高性能分辨率增强技术。刻度nMOPC
Mentor Graphics已经从Softjin Technologies收购了Mask数据准备产品和一个顶级工程师团队。口径NXDAT
Calibre Opcpro提供复杂IC布局的全芯片光学和工艺校正，以提高产量和工艺纬度。Calibre OpcPro™
完全支持添加，模拟和验证散射棒。Calibre OpcsBar™
虚拟制造解决方案支持RET配方优化。Calibre OpcVerify™
精确工具设置的解决方案-Calibre WorkbenchCalibre工作台™
用于快速开发掩模计量应用的编程API。Calibre®MAPI™
后OPC优化以减少遮罩放炮次数。Calibre®Maskopt™
