多光束掩模光刻的掩模过程校正验证

在本文中，我们使用现有的经过验证的掩模流程与新的MBMW系统结合使用现有的MPC校准和验证的全周期。

掩模过程校正（MPC）是掩模数据准备中必要步骤的完全建立，但是为矢量形状梁（VSB）掩模作家开发。我们证明了口径MPC完全适用于多梁面罩作家。

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