概述

在纳米节点上,设计签准不再只是DRC和LVS。物理验证的这些基本组成部分正被一套广泛的产量分析和关键特征识别能力所增强,以及布局增强,以及可打印性和性能验证,所有这些都是导师与 口径NM平台的DFM工具。

在我们强大的基础上,经过生产验证的超尺度体系结构,我们提供最广泛的,最准确的,以及业内性能最佳的DFM解决方案。因为Calibre平台是建立在标准的开放式数据库接口之上的,它为我们的客户带来了经过生产验证的DFM功能,而不依赖于他们所使用的设计创建环境。

产品

集锦

临界区分析

口径分析仪对设计的所有基础和互连层执行关键区域分析(CAA)。CAA确定了集成电路布局中易受随机粒子缺陷影响的区域,这些缺陷可在布局特征间距近的区域内造成短路或开路。Calibre Yieldanalyzer还执行关键特征分析(CFA)。对传统推荐规则分析的灵活扩展,采用基于模型的方法,自动将布局测量插入产量相关方程,以确定对整个制造过程窗口变化具有更高灵敏度的物理设计区域。通过将随机(CAA)和系统(CFA)过程分析相结合,Calibre NM平台考虑了这些影响对设计可制造性的综合影响,并使设计师能够根据广泛的产量限制因素优先考虑和指导可制造性改进。

分级处理引擎

底层的分层处理引擎确保在所有应用程序中进行可靠的测试和实现,同时提供最佳的运行时间。

石版友好设计

Calibre Yieldanalyzer基于模型的CAA/CFA方法补充了口径LFD协议石友好的设计解决方案。Calibre LFD提供运行模拟的能力,以查看版面如何在特定的平版工艺窗口下打印。Calibre LFD允许设计师实现LFD清洁以及“DRC清洁签核以确保高级流程节点的高产量。 Calibre®Yieldenhancer公司提供一种自动化的布局增强方法,可以提高产量。它通过利用空白空间实现增强,在不牺牲面积的情况下提高产量。为了平衡性能,Yieldenhancer提供网络感知功能和对设计数据库的后注释。为了确定对产量的影响,Yieldenhancer与Calibre Yieldanalyzer合作测量布局修改的影响。

快速发展

通用设计平台集成使所有口径的纳米平台应用程序能够快速部署到用户的设计环境中。

口径NM平台

Mentor正在继续扩展Calibre NM平台,以满足物理验证的所有需求,DFM和后期剥离物理设计改进。我们投入巨资确保我们的平台和工具彼此以及所有主要设计环境紧密集成,因此,用户可以灵活地创建最佳的DFM流,同时保护其现有的EDA投资。

定制设计和验证环境

跨所有应用程序(SVRF和TVF)的集成脚本环境允许用户自定义其设计和验证环境,以满足其设计团队的特定和不断发展的需求。

超尺度技术

超尺度技术为计算密集型应用带来了卓越的可扩展性和轻松的快速运行时间,在通过延长现有共享内存处理器系统的使用寿命来减少资本支出的同时,充分利用廉价的分布式机架系统。

资源

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