口径NMLVS

口径®NMLVS,市场领先的布局与物理验证工具示意图,与两者紧密相连口径NMRDC口径XRCμ提供经生产验证的设备提取,用于物理验证和寄生提取。作为完整的集成电路验证工具套件的一员,Calibre NMLVS通过提供集成电路布局和示意图之间的设备和连接比较来执行重要功能。Calibre的分级处理引擎运行Calibre NMLVS,提供修改IC设计的数据,以实现卓越的功能性和可靠性。

准确的电路验证

Calibre NMLVS能够实现精确的电路验证,因为它能够在一个完整的芯片上测量实际的器件几何尺寸,从而完整地计算物理参数。这些精确的设备参数为源示意图的后注释和运行模拟的综合数据提供了信息。除了使用Calibre XRC,Calibre NMLVS也可与第三方寄生提取工具一起使用。

自动化高级,客户特定的ERC

口径NMLVS现在可以用口径PrC(可编程电子规则检查器)。使用Calibre Perc,您可以自动化高级,客户特定的ERC,以消除冗长和容易出错的手动检查。PERC识别分组设备,这些设备在您描述和测量与电路拓扑相关的几何数据时连接在一起。

特点和优点

市场领先地位

Calibre NMLVS继续引领市场。工程师和管理层因其可靠的性能而优先考虑,容量,可靠性和调试易用性。

一流的精确度

设备识别的准确性对于磁带输出的成功至关重要。Calibre NMLVS提供了可靠的设备识别精度,以及世界级硅传输所需的及时执行。

快速运行时间

自动化的专有层次和逻辑注入技术提供了几乎无限的设计范围和快速的运行时间。多线程和分布式CPU处理能力确保了您的硬件在未来的扩展。

灵活性

Calibre NMLVS非常适合处理任何需要复杂设备参数提取的尺寸作业,无论是模拟/RF设计还是数百万门集成电路。

可靠性

有成千上万的用户,Calibre NMLVS为所有操作的可靠性和可预测性设定了标准。

设计调试和易用性

Calibre NMLVS提供了直观易用的集成设计验证调试环境,帮助您发现和解决设计问题。与传统布局相比,Calibre®NMLVS的速度快了两到三倍。流程示意图。

““Mentor的Calibre NMLVS产品具有ADP提取功能,通过考虑晶体管自身布局环境的系统变化,能够提取高精度电路特性,更好地反映行业领先的半导体工艺。在周围地区…““

Haruji Futami核心开发部高级经理,NEC

““我用的是以前版本的口径。我有一个复杂的LVS问题,我很难找到问题所在。客户销售顾问建议我升级到最新版本,它在GUI和错误报告方面有很多改进。新的calibre-rve/lvs把我带到了违规实例的坐标处,我能马上看到短裤。它准确地告诉我它被短路到哪个节点。我当然会鼓励Calibre用户考虑升级到最新版本的软件。金宝博滚球专家““

Brent Lickiss布局管理器Adesto技术公司
闲聊γ 接触